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エルフォミストジェット

高圧エアー式ドライフィルム現像機

・スリットノズルで高圧ミストにて現像

スリットノズルから少量の現像液を高圧エアーに使用して 現像機によりミスト化し現像液ミストを加速させながら効率よく現像可能。

・噴射圧力を任意に設定可能

高圧エアーを使用して現像機にて現像液を加圧することにより、 現像液の圧力及び噴射する高圧エアーの圧力を電空レギュレータ を使用して任意に設定可能。

・タッチパネルにより加工条件設定

ミストジェット用ノズルの移動幅・速度・噴射圧力等の加工条件を タッチパネルより任意に設定可能。

・現像液ミストの回収循環

ブロワーの負圧により噴射されたミストをミストジェット用サイクロンにて 回収し、再度加圧してスリットノズルより現像液を噴射


EWB-2AR


現像レベル

・サンドブラスト用フィルム

A)現像パターン:φ36μm(膜厚50μm)
B)現像パターン:φ30μm(膜厚50μm)
C)現像パターン:W60μm(膜厚100μm)
D)現像パターン:φ80μm(膜厚100μm)

・エッチング用ドライフィルム

A)現像パターン:W8μm (膜厚25μm)
B)現像パターン:W25μm(膜厚80μm


EWB-1ST

高圧エアー式スクリーン版現像機

・大型スリットノズルで水をミスト化し現像

ミストジェット用大型スリットノズルから少量の水を高圧エアーを使用してミスト化し 水のミストを加速させながら現像機にて微細パターンを現像。

・大型スクリーン版対応

基板を縦に設置することにより1050o×1050oの大型スクリーンを高精度に製版可能に。

・厚膜製版でも微細パターンを製版可能

高圧エアー式スクリーン版現像機にて高圧ミストを吹き付け厚膜の乳剤も膨潤させないで微細パターンの製版が 可能に。

・現像用水の使用量が従来の1/10以下に

少量の水をミスト化して噴射するため、従来のスクリーン版用現像機と比較して水の使用量が1/10以下に 低減可能。

・タッチパネルより加工条件設定

スクリーン版現像機のノズル移動幅・速度・噴射圧力等の加工条件をタッチパネルより任意に設定可能。


大型スクリーン版現像機


EWB-4ARSC


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